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設備概述
真空石墨爐是一種采用石墨加熱體作為發熱元件的真空高溫爐,主要用于材料燒結、熱處理、碳化、石墨化等工藝。其核心特點是高溫、高純度、快速升降溫,適用于碳材料、陶瓷、粉末冶金、半導體等領域的高端熱處理
產品特點
1.爐體結構:雙層水冷結構,內襯高純石墨或碳纖維保溫層,耐高溫 2.加熱元件:高純石墨棒,均勻發熱,最高溫度達2000℃ 3.節能耐用:石墨加熱體壽命長 4.多功能性:支持燒結、退火、石墨化、碳化等多種工藝
爐膛容積
最高溫度
加熱元件
溫區
控溫精度
8-96L
2000℃
石墨
多點控溫
±1℃
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