硅片真空退火爐是專為半導體硅片設計的精密熱處理設備,通過高真空無氧環境消除硅片內應力、修復晶格缺陷,并調控載流子壽命。該設備是集成電路制造、功率器件生產、光伏電池制備的關鍵工藝裝備
1.零金屬污染:全石英熱區+真空環境
2.氣氛控制:可選H?/N?/Ar氣氛,氫退火可鈍化界面態
3.冷卻系統:梯度冷卻(0.1-10℃/min)抑制滑移位錯
4.多區控溫:多區獨立控溫,最高溫度1200℃
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爐管尺寸(Φ*L)
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最高溫度
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加熱元件
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極限真空度
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爐管材質
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Φ60*800-Φ300*800mm可選
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1200℃
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電阻絲
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6.7*10-4pa
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高純石英管
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