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設備概述
箱式氣氛爐是一種在可控氣氛環境(如氮氣N?、氬氣Ar、氫氣H?或混合氣體)下進行高溫熱處理的封閉式設備,廣泛應用于金屬燒結、陶瓷加工、電池材料制備、半導體退火等需要無氧或特定氣氛的工藝場景。相比普通箱式爐,它通過精確的氣氛控制,可防止材料氧化、實現特定化學反應或提高產品性能
產品特點
爐膛容積
最高溫度
加熱元件
爐膛結構
可通氣體
12-216L可選
1700℃
電阻絲/硅碳棒/硅鉬棒
方形
N2、AR等
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